很遺憾,因您的瀏覽器版本過低導致無法獲得最佳瀏覽體驗,推薦下載安裝谷歌瀏覽器!
真空鍍膜設備有哪些種類特點?真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
肇慶市龍澤真空設備有限公司
18318860317