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真空蒸發鍍膜設備功能特點,真空室內蒸發物質的蒸氣與固體或液體平衡過程中所表現出來的壓力。
1.高熔點:因為鍍料的蒸發溫度(飽和蒸氣壓為1Pa時的溫度)多數為1000-2000℃,所以蒸發源材料的熔點高于此溫度
2.飽和蒸氣壓低:主要是為了防止和減少高溫下蒸發源材料會隨著鍍料蒸發而成為雜質進入蒸鍍膜層中。
3.化學性能穩定,高溫下不與蒸發材料反應:但是在電阻蒸發中比較容易出現的問題是,高溫下某些蒸發源材料與鍍料之間會發生反應和擴散
形成化合物和合金。形成低熔點共晶合金,其影響非常大。如高溫下,鉭和金形成合金。一旦形成低熔點共晶合金,蒸發源就很容易燒斷。
肇慶市龍澤真空設備有限公司
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